2026-812
無掩膜光刻是新型數字化微納加工技術，摒棄了傳統光刻依賴物理掩模版的作業模式，依托數字信號調控光束完成圖案曝光成型。傳統光刻需要提前定制掩模板，工序繁瑣、改版成本高，更適合大批量定型生產，難以適配小批量試制、多樣化結構研發的需求。無掩膜光刻通過數字化直寫成像方式，直接將設計圖形投射至基材表面，大幅簡化光刻工藝流程，適配現代微納器件的快速研發與試樣加工場景。該技術依托可編程光學系統運行，圖形修改僅需調整計算機設計文件，無需更換硬件模板，工藝靈活度較高。可適配多種基底材料與微納結構...
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在微電子技術中，引線鍵合是連接芯片與封裝基座的常見工藝。隨著光通信和光子集成電路的快速發展，芯片之間的光信號互連成為了新的技術挑戰。光子引線鍵合（PhotonicWireBonding,PWB）正是為了解決這一難題而誕生的新型封裝技術。它借鑒了傳統電子引線鍵合的概念，利用具有三維自由形態的聚合物波導作為“橋梁”，跨越芯片之間的間隙，從而實現光信號在不同光子元件或芯片之間的高效傳輸。這項技術的核心優勢在于其出色的靈活性和對高精度對準的寬容度。在傳統的混合光子集成中，將不同材料（...
查看更多2026-86
三維激光直寫技術作為微納制造領域的一項前沿工藝，正逐步從實驗室走向廣泛的工業應用。它突破了傳統光刻在結構和材料上的諸多限制，為復雜微納器件的快速原型制造和定制化生產提供了靈活且高效的解決方案。隨著微納器件向集成化方向不斷發展，這項技術的應用潛力也在逐步釋放，成為支撐精密制造產業升級的重要基礎裝備之一。三維激光直寫的核心工作原理，是利用飛秒激光的非線性效應，將能量精確聚焦于光敏材料的特定區域。由于多光子吸收僅發生在焦點附近的極小體積內，設備無需借助掩模版，就能直接寫入任意復雜的...
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雙光子設備依托雙光子吸收的非線性光學效應，集合超快激光、精密掃描、信號采集等模塊，可完成深層生物樣本成像與三維微納結構加工兩類核心工作，是光學研究領域重要的實驗平臺。區別于常規單光子光學設備，該類設備多選用近紅外飛秒脈沖激光作為激發光源，依靠焦點位置很高的光子密度觸發反應，能夠在減少周邊區域干擾的前提下獲取目標信息或者完成材料加工，近些年在多個前沿科研方向得到更多使用。隨著生命科學、微納制造領域的研究不斷推進，傳統光學設備在成像深度、三維加工精度上存在一定局限，雙光子設備憑借...
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納米針是針尖直徑處于納米尺度的針狀微納結構，多以陣列形式排布，依靠極小尺寸完成微觀界面穿刺、物質遞送與信號采集，是生物醫學、材料科研領域的微型功能載體。傳統注射、細胞轉染手段容易損傷細胞組織，或是遞送效率偏低，而納米針針尖尺寸遠小于常規微針，穿刺過程對細胞膜、活體軟組織損傷輕微，可在保留細胞活性的前提下完成分子輸送與樣本采集，近些年在基礎科研與醫用轉化領域得到持續研究與應用。納米針可選用硅、二氧化硅、可降解高分子、壓電陶瓷等多種基材，搭配光刻、氣相生長、3D微納打印等工藝制備...
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三維激光直寫是一種無需掩模、直接利用聚焦激光束在光敏材料內部或表面進行三維微納結構加工的先進制造技術。它通過計算機控制激光焦點在三維空間內的精確移動，誘導材料發生聚合、改性或刻蝕等物理化學變化，從而“憑空”構建出復雜的立體微結構。在微機電系統（MEMS）、集成光子學、微流控芯片以及生物醫學工程等領域，三維激光直寫正展現出巨大的應用潛力。與傳統的二維光刻技術相比，它擺脫了掩模的限制，能夠以很高的分辨率（可達亞微米甚至納米級）實現真正的三維自由曲面加工。這種技術為復雜微結構的快速...
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雙光子設備是依托雙光子吸收效應研發的高精度光電科研設備，主要分為雙光子顯微成像系統與雙光子微納加工系統兩大類型，是生命科學、材料工程、精密制造領域的核心裝置。該設備利用近紅外飛秒激光實現非線性光學激發，突破了傳統單光子成像與加工的技術局限，可在不損傷活體樣本、不破壞材料表層結構的前提下，完成深層成像與三維微納結構加工，是微觀領域精細化研究與精密制備的重要工具。傳統光學設備多采用單光子激發模式，存在光損傷大、成像深度淺、背景干擾多、易出現光漂白等問題，難以適配活體動態觀測、厚組...
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三維激光直寫設備是一種基于激光光刻技術，在光敏材料中直接加工出三維微納結構的精密制造儀器。與傳統的掩模光刻不同，該設備無需制作物理掩模版，而是通過計算機控制的聚焦激光束在光刻膠內按照預設三維軌跡進行掃描曝光，顯影后即可獲得連續、光滑的二維或三維微結構。在微機電系統、微光學元件、生物芯片、微流控器件以及組織工程支架等領域，三維激光直寫設備為復雜微結構的快速原型制作提供了一種較為靈活的加工手段。該技術因其無需掩模、設計修改方便、加工分辨率可達亞微米級別的特點，在科研院所和制造業中...
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