無掩膜直寫光刻設備擁有跨尺度納米級三維加工能力

更新時間：2024-12-07

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無掩膜激光直寫光刻機‌是一種利用激光直接在光刻膠上曝光制作所需圖案的設備，其適用于實驗室和科研機構，能夠進行微納尺度的光刻加工。應用：

電子/半導體器件

微/納電機系統

自旋電子學

傳感器

微流控

材料科學

生物實驗室芯片

光子學

主要特點：

適用于大規模生產和工業級應用

從納米級到十微米多種加工模式，實現更高的加工精度與速度

加工圖案預覽功能和對準誤差補償

加工面自動平整和自動聚焦，保證加工一致性

全自動化的可視控制系統與圖形化編程語言的應用，顯著提升設備調控的靈活性與自主性

更高的對準、拼接和套刻精度

長時穩定性控制系統，保證加工穩定性余一致性

更大的加工區域，適用不同尺寸基材，提供自動化樣品吸盤夾具

跨尺度納米級三維加工能力，魔技納米深入生物醫藥、維納光學、光電通信、新材料、防偽等多領域，結婚自研設備，摸索并形成面向多個行業應用的成熟的加工工藝。

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