雙光子設(shè)備是指利用雙光子吸收這一非線性光學(xué)過程進(jìn)行成像或加工的裝置統(tǒng)稱。最典型的代表為雙光子顯微鏡和雙光子聚合光刻系統(tǒng)。這些設(shè)備的核心在于采用飛秒激光作為激發(fā)源，通過物鏡將高光子密度聚焦于樣品局部區(qū)域，從而在焦點(diǎn)體積內(nèi)引發(fā)雙光子效應(yīng)。由于該效應(yīng)的發(fā)生強(qiáng)度與光強(qiáng)的平方成正比，熒光激發(fā)或光聚合反應(yīng)被天然限制在焦點(diǎn)中心極小范圍內(nèi)，這為深層組織成像和高精度三維加工提供了物理基礎(chǔ)。

雙光子顯微鏡的結(jié)構(gòu)與成像原理

一臺常規(guī)的雙光子顯微鏡主要包括以下模塊：飛秒激光源（通常為鈦藍(lán)寶石激光器或光纖飛秒激光器）、光束掃描單元（振鏡或共振掃描鏡）、高數(shù)值孔徑物鏡、二向色鏡與濾光片組以及光電倍增管探測器。

成像時(shí)，飛秒脈沖經(jīng)掃描系統(tǒng)偏轉(zhuǎn)，通過物鏡聚焦于生物樣品內(nèi)部。在焦點(diǎn)附近，兩個(gè)光子幾乎同時(shí)被熒光分子吸收，使其躍遷至激發(fā)態(tài)并發(fā)射熒光。由于雙光子吸收截面很小，只有在光子密度足夠高的焦點(diǎn)處才能產(chǎn)生可測熒光信號，而焦點(diǎn)之外的區(qū)域幾乎不產(chǎn)生背景。該特性帶來兩點(diǎn)好處：

天然的光學(xué)層切能力，無需共焦針孔；

使用近紅外激發(fā)光（約700–1000 nm），相比紫外或可見光在生物組織中具有更低的散射與吸收，從而獲得數(shù)百微米的成像深度。

雙光子顯微鏡在神經(jīng)科學(xué)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用，例如對活體小鼠皮層中樹突棘、鈣活動(dòng)以及血流變化的長期追蹤觀察。

雙光子聚合光刻系統(tǒng)

雙光子聚合利用了類似的物理過程，但材料體系從熒光染料變?yōu)楣饷魳渲ｏw秒激光焦點(diǎn)處發(fā)生雙光子吸收后，引發(fā)光引發(fā)劑分解并促發(fā)單體聚合形成交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)。通過三維移動(dòng)平臺或掃描振鏡控制焦點(diǎn)的軌跡，可以制備任意形狀的聚合物結(jié)構(gòu)，特征尺寸可突破衍射極限，達(dá)到亞百納米級別。

雙光子聚合光刻的應(yīng)用包括：微光學(xué)元件（如微透鏡陣列、衍射光學(xué)元件）、力學(xué)超材料、細(xì)胞支架以及微流道器件。與平面光刻工藝相比，雙光子聚合具備真正的三維自由度，能夠制造懸垂結(jié)構(gòu)、嵌套結(jié)構(gòu)和曲面構(gòu)型。

設(shè)備的優(yōu)勢與局限

雙光子設(shè)備相比于基于單光子激發(fā)的共聚焦成像或平面光刻，提供了一些獨(dú)特的能力：

成像深度顯著提升，適用于不透明或強(qiáng)散射樣品。

光毒性和光漂白局限于焦平面下方，有利于活體樣品長期觀測。

加工精度可達(dá)百納米量級，且無需多層掩模。

但雙光子設(shè)備也存在制約其普及的因素：

成本較高：飛秒激光源和高速掃描單元推高了設(shè)備造價(jià)，維護(hù)費(fèi)用也高于普通熒光顯微鏡。

成像速度受限：逐點(diǎn)掃描的方式導(dǎo)致幀率低于寬場或轉(zhuǎn)盤共聚焦系統(tǒng)。并行化方法（如多焦點(diǎn)掃描或貝塞爾光束照明）正在研究中。

材料選擇性有限：雙光子聚合適用的光敏樹脂種類不夠豐富，機(jī)械強(qiáng)度、折射率調(diào)諧范圍等性能有待拓展。

技術(shù)發(fā)展趨勢

近年來，雙光子設(shè)備領(lǐng)域出現(xiàn)一些值得關(guān)注的進(jìn)展。在成像方面，自適應(yīng)光學(xué)被用于校正樣品引起的波前畸變，進(jìn)一步延伸成像深度并恢復(fù)分辨率；在加工方面，飛秒激光的時(shí)空整形調(diào)控以及計(jì)算光刻方法的引入，提升了制造結(jié)構(gòu)的保真度。

同時(shí)，廠商已推出集成化、相對小型化的雙光子設(shè)備，降低了用戶自行搭建系統(tǒng)的技術(shù)門檻。隨著激光器成本下降和自動(dòng)化操控軟件的成熟，雙光子設(shè)備在生物醫(yī)學(xué)研究與微納原型制造領(lǐng)域的應(yīng)用有望持續(xù)擴(kuò)展。

雙光子設(shè)備并非適合所有應(yīng)用場景，當(dāng)樣品透明、目標(biāo)結(jié)構(gòu)為二維或?qū)Τ杀久舾袝r(shí)，傳統(tǒng)共聚焦成像或單光子光刻仍是合理的選擇。但對于需要深層成像或自由曲面三維制造的場合，雙光子設(shè)備提供了技術(shù)手段。